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艾丁陞實業有限公司 - 您值得信賴的紅外線熱像儀夥伴
Optris Xi 05M ETH – 用於熔融金屬、鋼鐵、合金的自主式短波紅外線熱像儀
非反射材質通常在長波紅外線波段內表現出高且穩定的發射率,且不受表面紋理的影響。相較之下,金屬和反射材料在長波長處的發射率較低,導致溫度讀數不可靠。
Optris Xi 05M MeltScope熱像儀的短波長光譜範圍與大多數金屬的峰值發射率相匹配,可實現精確的非接觸式溫度測量。根據普朗克定律,波長越短,發射的紅外線輻射越多,從而減少與發射率相關的誤差,並提高測量重複性。因此,測量高溫下的反射材料時,應使用盡可能短的波長。
Xi 05M具備自主熱點偵測功能,確保高效率的監測與偵測。該產品在德國設計和製造,與長波攝影機相比,具有更高的精度和穩定性。這款中等解析度偵測器(396 × 300像素)可測量950°C至2450°C的溫度,無子範圍限制。其高距離光斑比使其能夠在遠距離進行精確測量,而電動調焦功能則支援遠端調整。
這款專為工業可靠性而設計的緊湊型防水熱像儀,支援固定式或壁掛式安裝。此外,它還配備乙太網路和 USB 接口,可提供 20 Hz 的成像速度,並可輕鬆整合到控制系統中。其他功能包括自動點偵測、類比輸出 (0/4–20 mA) 以及現場匯流排相容性(乙太網路/IP、Modbus TCP/IP、RS485、Profinet)。可選配件(例如水冷和空氣吹掃裝置)可進一步擴展其在惡劣環境下的應用。
關鍵特點
- 工業乙太網路短波紅外線攝影機
- 測量範圍寬廣,從 950°C 到 2450°C,無子範圍
- 小巧堅固,附電動對焦
- 具有 396 x 300 像素解析度的高動態 CMOS 偵測器
- 具備自主運作能力,可自動尋找熱點,提供直接模擬或警報輸出,並支援多種現場匯流排通訊選項。
- 乙太網路或 USB 介面
產品描述與功能深度解析
I. 短波紅外線高溫量測設計|適用金屬與反射材料
Optris Xi 05M 是一款短波紅外線熱像儀,在非接觸式熱成像領域,為複雜物件的測量提供創新性、經濟性與高精度的解決方案。此熱像儀設計工作於短波紅外線波段(05M:500 – 540 nm),可精確測量高溫鋼、鐵、黃銅、銅、錫、碳、陶瓷與半導體等材料的表面溫度。Optris Xi 05M 能夠滿足各行業嚴苛需求,提供寬廣的高溫測量範圍、卓越的精度以及可自訂的視野配置。
由非反射材料製成的測量對象通常具有高且穩定的發射率,且不受表面紋理影響,尤其是在長波光譜範圍內;相較之下,金屬與反射材料在長紅外線波長範圍內表現出較低的發射率,容易導致溫度測量結果不一致且不可靠。
II. 高溫反射材料量測原理與精度表現
Xi 05M MeltScope 紅外線熱像儀的短波長光譜範圍與大多數金屬材料的峰值發射率相匹配,可實現精確的遠距離溫度測量。根據普朗克輻射定律,波長越短,紅外線輻射越強,從而降低發射率變化對測量重複性的影響。因此,在高溫反射材料的非接觸式溫度測量應用中,應盡可能採用較短波長進行量測,以獲得更高的準確性與穩定性。
Xi 05M 亦配備自主熱熱點檢測功能,可自動搜尋溫度異常區域,進一步提升其在監測與檢測應用中的有效性。Xi 05M 由德國設計與製造,與長波長紅外線熱像儀相比,在工業應用中展現出更高的精度、準確度與重複性。
III. 中解析度成像與遠距光學性能|支援高溫精密量測
Xi 05M 紅外線熱像儀提供 396 x 300 像素的中等解析度熱成像,無需子量程即可測量 950°C 至 2450°C 的溫度範圍。其高距離光斑尺寸比使其能夠從相當遠的距離精確採集溫度數據,光學性能超越目前主流高溫計。電動調焦功能可實現對測量目標的遠端精確對焦。
Optris Xi 05M MeltScope 採用工業級結構設計,確保在嚴苛的工業環境中可靠運行,協助製程工程師取得精確的紅外線溫度測量數據。其緊湊、耐用且防水的設計,使其適用於固定安裝與外掛安裝,確保在各種製造環境中皆能長期穩定運作。
IV. 工業通訊介面與軟體平台|簡化系統整合與應用
Optris Xi 05M 以乙太網路作為主要介面,可與電腦無縫連接,並以 20 Hz 的幀速率傳輸全尺寸影像;同時亦提供 USB 介面,用於以 20 Hz 幀速率傳輸 132 x 100 像素的子影像。其自主運作功能可減少對複雜軟體開發的需求,便於輕鬆整合至控制系統中。其他功能包括自動光斑檢測、直接類比輸出(0/4–20 mA),以及與 Ethernet/IP、Modbus TCP/IP、RS485 與 Profinet 等工業現場匯流排協定的相容性,使 Xi 05M 非常適合 OEM 應用並簡化其與工業機械的整合。
此外,Xi 05M 可搭配具備強大功能的軟體平台進行熱影像處理與溫度資料擷取,對研究人員而言亦是一款價格實惠且功能完整的紅外線熱像儀。Optris 亦為系統整合商提供開發套件,以建立特定應用的軟體解決方案。Xi 05M 同時相容於多種專為嚴苛環境設計的配件,例如可將工作溫度範圍擴展至 250°C 的水冷外殼,以及可在多塵環境下保持鏡頭清潔的空氣吹掃裝置,並提供多樣化的機械安裝選項、電氣接口與連接線纜。
Optris Xi 05M ETH 規格
| 產品型號 Model Number | Xi 05M ETH 28° x 21° | Xi 05M ETH 14° x 10° | ||
|---|---|---|---|---|
| 感測器 Detector | ||||
| 光學解析度 Optical resolution | 396x300像素 | 396x300像素 | ||
| 像素間距 Pixel pitch | 15 µm | 15 µm | ||
| 感測器 Detector | CMOS | CMOS | ||
| 光譜範圍 Spectral Range | 500 - 540 nm | 500 - 540 nm | ||
| 光學濾光片 Optical Filter | 無 | 無 | ||
| 幀率 Frame rate |
全解析度:20 Hz(乙太網路) 子幀模式:20 Hz(USB,自主) 線掃描:500 Hz(乙太網,獨立) |
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| 光學 Optical | ||||
| 視野 Field of View | 28° x 21° | 14° x 10° | ||
| 焦距 Focal length [mm] | 12.0 | 25.0 | ||
| F值/光圈值 F Number | 2.0 | 2.8 | ||
| 光學分辨率 Distance to Spot ratio (D:S) | 195 : 1 | 400 : 1 | ||
| 目標最小距離 Minimum Distance to target | 300 mm | 300 mm | ||
| 可互換光學元件 Interchangeable optics | 不可更換 | 不可更換 | ||
| 測量 Measurement | ||||
| 目標溫度範圍 Object Measurement Range | 900 – 2450 °C | 900 – 2450 °C | ||
| 精度 Accuracy |
對於溫度低於 2000 °C 的物體:20 Hz 和 500 Hz 頻率下讀數的 ±1%。 對於溫度高於 2000 °C 的物體:20 Hz 和 500 Hz 頻率下讀數的 ±2%。 |
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| 熱靈敏度 NETD | < 2.5 K (< 1800 °C) / 1800 °C) | < 2.5 K (< 1800 °C) / 1800 °C) | ||
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最小可偵測光斑尺寸(IFOV):1 像素 Smallest detectable Spot Size IFOV: 1 pixel |
0.7 mm | 0.19 mm | ||
| 最小可測量光斑尺寸 Smallest measurable Spot Size MFOV | 2.8 mm | 0.8 mm | ||
| 測量視場 MFOV Measurement Field of View | 4x4像素 | 4x4像素 | ||
| 熱機時間 Warm-up time | 10 min | 10 min | ||
| 發射率/透射率/反射率 Emissivity /Transmissivity/ Reflectivity |
可調整範圍 : 0.100 ~ 1.100 |
可調整範圍 : 0.100 ~ 1.100 |
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